Fotokromna leča SETO 1.60 SHMC

1) Kaj je centrifugiranje?

Spin coating je postopek, ki se uporablja za nanašanje enotnih tankih filmov na ravne podlage.Običajno se na sredino podlage nanese majhna količina premaznega materiala, ki se vrti pri nizki hitrosti ali pa se sploh ne vrti.Substrat se nato vrti s hitrostjo do 10.000 vrtljajev na minuto, da se premazni material porazdeli s centrifugalno silo.Stroj, ki se uporablja za centrifugiranje, se imenuje stroj za centrifugiranje ali preprosto centrifuga.
Vrtenje se nadaljuje, medtem ko se tekočina vrti z robov substrata, dokler ni dosežena želena debelina filma.Uporabljeno topilo je običajno hlapno in hkrati izhlapi.Večja kot je kotna hitrost vrtenja, tanjši je film.Debelina filma je odvisna tudi od viskoznosti in koncentracije raztopine ter topila.[2]Pionirsko teoretično analizo nanosa z centrifugiranjem so izvedli Emslie et al., razširili pa so jo številni kasnejši avtorji (vključno z Wilsonom et al. [4], ki so proučevali hitrost širjenja pri nanosu centrifuge; in Danglad-Flores et al. [5], ki je našel univerzalni opis za napovedovanje debeline nanesenega filma).
Spin prevleka se pogosto uporablja pri mikroizdelavi funkcionalnih oksidnih plasti na steklenih ali monokristalnih substratih z uporabo sol-gel prekurzorjev, kjer se lahko uporablja za ustvarjanje enakomernih tankih filmov z debelinami v nanometrskem merilu.[6]Intenzivno se uporablja v fotolitografiji za nanašanje plasti fotorezista debeline približno 1 mikrometra.Fotorezist se običajno vrti pri 20 do 80 vrtljajih na sekundo 30 do 60 sekund.Široko se uporablja tudi za izdelavo ravninskih fotonskih struktur iz polimerov.
Ena od prednosti tankih filmov z vrtenjem je enakomerna debelina filma.Zaradi samorazlivne debeline se ne razlikujejo več kot 1%.Vendar lahko centrifugiranje debelejših filmov polimerov in fotorezistov povzroči razmeroma velike robne kroglice, katerih planarizacija ima fizične omejitve.